专利名称：曝光装置和曝光方法专利类型：发明专利发明人：朱凤稚
申请号：CN201510097055.3申请日：20150304公开号：CN104614951A公开日：20150513
摘要：本发明公开了一种曝光装置和曝光方法，该曝光装置包括：承载基台，其中承载基台用于承载待曝光基板，承载基台包括：若干个承载单元，待曝光基板被划分为与承载单元一一对应的若干个调节区域，承载单元中设置有温度调节模块，温度调节模块用于调节待曝光基板上对应的调节区域的温度，以使待曝光基板上对应的调节区域产生相应的热膨胀。本发明的技术方案通过调节待曝光基板上各调节区域的温度，以使得待曝光基板上各调节区域产生相应的热膨胀，从而对各调节区域的上表面的光强进行调节，从而能有效的保证待曝光基板的上表面的光强的均匀分布。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司
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