专利名称：曝光装置、曝光方法、以及器件制造方法专利类型：发明专利发明人：長坂博之,白石直正申请号：CN01815808.0申请日：20010914公开号：CN1459124A公开日：20031126
摘要：F激光光源射出作为使圆片表面的光刻胶感光的波长的真空紫外线的主光线(波长157nm)以及作为次后发生的红光的副光线(波长630至720nm)的光。这种光由光束分离器(26)分路，射入到对主光线和副光线具有感度的光传感器(41)中。将具有使主光线透过、使副光线不透过性质的滤光器(F1)设置在光束分离器(26)与光传感器(41)间。能正确地检测参与曝光的主光线的光量。
申请人：株式会社尼康
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：上海专利商标事务所
代理人：赵国华
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