专利名称：曝光方法和曝光装置、以及器件制造方法专利类型：发明专利
发明人：白石健一,星加隆一,藤原朋春申请号：CN200680001682.1申请日：20060421公开号：CN101099224A公开日：20080102
摘要：本发明提供曝光方法和曝光装置、以及器件制造方法。其中，浸液装置(132)具有混入机构，该混入机构在向配置于投影光学系统(PL)的光射出侧的物体(部件)表面的疏液膜上供应的液体中，混入并溶解对该液体的电阻率进行调整的规定物质；并且，将溶解有该规定物质的液体(Lq)供应到疏液膜上来形成浸液区域。
申请人：株式会社尼康
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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