专利名称：清洁化妆料专利类型：发明专利发明人：田代朋子,小杉拓治申请号：CN201180022450.5申请日：20110425公开号：CN102883707A公开日：20130116
摘要：一种清洁化妆料，其含有：(A)含量为30质量％以上、I/O值在0.05～0.25范围内的第一油性成分；(B)含量超过10质量％、具有脂肪族烃链且不具有不饱和脂肪族烃链的液状乳化剂；以及(C)类胡萝卜素。
申请人：富士胶片株式会社
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：蒋亭
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